等离子镀膜设备是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
等离子镀膜设备详细说明
VTC-2RF是一款小型的射频（RF）等离子体磁控溅射镀膜仪系统，系统中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜，它是一款物美价廉的实验帮手。
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜
技术参数
输入电源
220VAC50/60Hz,单相
800W(包括真空泵）
等离子源
一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内
(点击图片查看详细资料）
磁控溅射头
一个2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接
靶材尺寸:直径为50mm,zui大厚度6.35mm
一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）
溅射头所需冷却水：流速10ml/min（仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机）
同时可选配1英寸溅射头
真空腔体
真空腔体：160mmODx150mmIDx250mmH，采用高纯石英制作
密封法兰:直径为165mm.采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封
一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体
真空度：10-3Torr（采用双极旋片真空泵）
10-5torr（采涡旋分子泵）
载样台
载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热
载样台尺寸：直径50mm（zui大可放置2英寸的基片）
旋转速度：1-20rpm
样品的zui高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃
控温精度+/-10℃
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